산화 공정

• 염산(Hydrochloric acid, HCl)
• 과산화수소(Hydrogen peroxide, H2O2)
• 탈이온수(DI water)

포토 공정

• 황산(Sulfuric acid, H2SO4)
• 질산(Nitric acid, HNO3)
• 불산(Hydrofluoric acid, HF)
• 염산(Hydrochloric acid, HCl)
• 과산화수소(Hydrogen peroxide, H2O2)
• 이소프로필알콜(IPA)
• 아세톤(Acetone, CH2COCH3)
• 1,1,1-트리클 로로에탄
  (1,1,1-Trichloroethane,  CH3CCl3)
• 크실렌(Xylene)
• 에틸렌글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트(2-Butoxyethyl acetate)
• 톨루엔(Toluene)
• 헥사메틸다이실 라잔(Hexamethyldisilazane, HMDS)
• n-부틸아세테이트(n-butylacetate)
• 테트라 메틸암모늄 하이드록시드(Tetramethylammonium hydroxide, TMAH)
• 크실렌(Xylene) 

식각 공정

습식식각

• 불산(Hydrofluoric acid, HF)
• 염산(Hydrochloric acid, HCl)
• 황산(Sulfuric acid, H2SO4)
• 질산(Nitric acid, HNO3)
• 삼산화크롬(Chromium trioxide, CrO3)
• 과산화수소(Hydrogen peroxide, H2O2) 등의 강산 

건식식각

• 염소, 불소, 브롬 화합물로 염소(Chlorine, Cl2)
• 삼염화붕소(Boron trichloride, BCl3)
• 염화수소(Hydrogen chloride, HCl)
• 트리플루오르메탄(Trifluoromethane, CHF3)
• 브롬(Bromine, Br2)
• 테트라플루오르메탄(Tetrafluoromethane, CF4)
• 사염화탄소(Carbon tetrachloride, CCl4) 등

박막 공정

• 메탄올(Methanol)
• 페놀/테트라클로로에틸렌(Phenol/Tetrachloroethylene)
• o-디클로로벤젠(o-Dichlorobenzene)
• 페놀(Phenol)
• p-톨루엔(p-Toluene)
• 술폰산(Sulfonic acid)
• 과산화수소(Hydrogen peroxide, H2O2)-황산(Sulfuric acid, H2SO4)
• 산화크롬 (III)(Chromium(III) Oxide, Cr2O3)-황산(Sulfuric acid, H2SO4)
• 암모니아 용액(Ammonia solution)